X射線熒光光譜法元素分析儀是利用原X射線光子或其它微觀粒子激發(fā)待測(cè)物質(zhì)中的原子，使之產(chǎn)生次的特征X射線（X光熒光）而行物質(zhì)成分分析和化學(xué)態(tài)研究，是江蘇天瑞儀器股份有限公司的主營(yíng)產(chǎn)品之。以下內(nèi)容主要介紹X射線熒光光譜法元素分析儀分析作中的共元素干擾。
    X射線熒光光譜法元素分析儀的原理基于原子受到X射線的作用，其內(nèi)層電子被激發(fā)，形成空穴，原子處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)。為了回到穩(wěn)態(tài)，原子的外層電子會(huì)躍遷回內(nèi)層，多余的能量以熒光形式釋放出來(lái)，被偵測(cè)器檢測(cè)到，通過(guò)此來(lái)做分析。通常，可以將X射線熒光光譜分析儀可分為波長(zhǎng)色散性和能量色散性。X射線熒光光譜法元素分析儀在日常的分析作中，XRF這種分析方法經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)共元素干擾。這種共元素干擾的問(wèn)題主要起源于X熒光射線偵測(cè)器對(duì)于X熒光射線的分辨率的限制所致，只要是XRF都會(huì)遭遇到相同的問(wèn)題。共元素干擾主要分為三類：兩相近共元素干擾、逃離波峰、加乘波峰。

    1、兩相近共元素干擾

    由于兩元素在能譜圖上的位置相近，以至于偵測(cè)器無(wú)法分別出兩者之間的差距。如鉛(La10.55Kev)、砷(Ka10.54Kev)。

    2、逃離波峰

    由于某元素的濃度異常，此時(shí)發(fā)出大量X熒光射線，而偵測(cè)器無(wú)法及時(shí)處理，將在此元素的能譜位置前個(gè)硅Ka的能譜距離多出根小波峰而成誤判，但情形少出現(xiàn)。如錫(Ka25.27Kev)-硅(Ka1.74Kev)=23.53Kev≈鎘(Ka23.17 Kev)。

    3、加乘波峰

    由于某元素的濃度異常，此時(shí)發(fā)出大量X熒光射線，而偵測(cè)器無(wú)法及時(shí)處理，將在能譜兩倍的位置上出現(xiàn)根波峰。如大量的鐵(Ka6.4Kev)，會(huì)在能譜12.8Kev處出根小波峰。成誤判。但此種情形為少見(jiàn)。